包括美国Lam公司等离子体增强型化学气相淀积(PECVD)、液态源等离子增强化学气相沉积系统、物理气相淀积(PVD)和铜电镀、数台先进铜互连工艺设备、化学机械研磨(CMP)、原子层沉积系统等先进进口铜互连设备。可匹配华力、中芯生产线,进行先进高性能工艺、特殊工艺模块研发和原子层沉积互连新技术。